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週期性非線性光學元件的製造方法 |
刊登日期:2014/05/21 |
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‧ 專利名稱 |
週期性非線性光學元件的製造方法 |
‧ 專利證書號 |
I369568
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‧ 專利權人 |
國立臺灣大學 |
‧ 專利國家
(申請日) |
中華民國 (2008/06/09)
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‧ 發明人 |
彭隆瀚 , 曾鈺珮 , 黃筑瑄 , 林揆倫 , |
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技術摘要: |
一種週期性非線性光學元件的製造方法,係於鐵電材料基板之第一表面上形成具有週期性結構之金屬層,再加熱基板以於第一表面下方形成週期性金屬擴散結構,最後施加鉛直射入該第一表面之電場,使該鐵電材料基板未受該週期性金屬擴散結構遮蔽之鉛直區域產生極化反轉。如此,利用該週期性金屬擴散結構之反轉電場較高之特性,使該鐵電材料基板未受該週期性金屬擴散結構遮蔽之鉛直區域產生極化反轉,因此能避免於製造週期性晶格極化反轉鈮酸鋰晶體時,由於光阻之電場遮蔽效果較差,所產生之極化反轉不均之現象。
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聯繫方式 |
聯絡人:
研發處產學合作總中心 |
電話:
(02)3366-9949 |
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地 址:
10617臺北市大安區羅斯福路四段1號 禮賢樓六樓608室 |
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