脈衝雷射蒸鍍系統
刊登日期:2015/02/11
  ‧ 專利名稱 脈衝雷射蒸鍍系統
  ‧ 專利證書號 I472635
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)
中華民國 (2013/09/13)
美國 (2014/01/17)
 
  ‧ 發明人/PI 林清富,鄭宇彣,吳皓郁,
  ‧ 單位 光電工程學研究所
  ‧ 簡歷/Experience
技術摘要 / Our Technology:
本發明相關於一種脈衝雷射蒸鍍系統,特別是有關一種可以同時蒸鍍數種靶材的紫外光脈衝雷射蒸鍍系統。此脈衝雷射蒸鍍系統藉由一雷射分光裝置將一道紫外光雷射分光成數道紫外光雷射,並將這些紫外光雷射同時照射於不同靶材上。因此,此脈衝雷射蒸鍍系統可以同時使用數種不同的靶材,並且具有製作具摻雜或三元以上的磊晶層(或三五族化合物半導體材料薄膜)的能力。



專利簡述 / Intellectual Properties:




 

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