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一種鍍製金屬氧化物透明導電圖樣的技術

刊登日期：2024/03/01

‧ 專利名稱	透明導電圖樣的形成方法
‧ 專利證書號	I834267
‧ 專利權人	國立臺灣大學
‧ 專利國家 (申請日)	中華民國 (2022/08/30)

‧ 發明人/PI	莊嘉揚,李明蒼,
‧ 單位	機械工程學系
‧ 簡歷/Experience

技術摘要 / Our Technology：

透明導電圖樣的形成方法包括以下步驟。提供基板。提供前驅物溶液，其中前驅物溶液包括形成透明導電圖樣的前驅物。前驅物通過電漿系統解離，並伴隨電漿系統產生的電漿噴出至基板。雷射光透過振鏡在基板上掃描，使受雷射光照射的基板被局部加熱。解離後的前驅物反應並沉積於被局部加熱的基板上，以形成透明導電圖樣。透明導電圖樣對應於雷射光的掃描路徑。

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