在不銹鋼表面形成貧鉻層之活化處理與低溫氣體滲碳滲氮處理
刊登日期:2015/08/16
  ‧ 專利名稱 不銹鋼表面處理方法及不銹鋼處理系統
  ‧ 專利證書號 I548778
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)
中華民國 (2014/02/11)
 
  ‧ 發明人/PI 陳永傳,楊宗澤,
  ‧ 單位 機械工程學系
  ‧ 簡歷/Experience
技術摘要 / Our Technology:
一種不銹鋼表面處理方法,包括將表面具有鈍化膜之不銹鋼置於一溫度維持在450至650℃且含水蒸氣及鹽酸蒸氣之加熱爐中,加熱5至10分鐘,以移除該鈍化膜,並於該經移除鈍化膜之不銹鋼表面形成貧鉻層。該經處理之不銹鋼在大氣中放置多天後還能夠實施低溫滲碳或滲氮,達到顯著的表面硬化效果,大幅改善其耐磨性,而且不降低耐蝕性。由於可分開進行活化前處理和硬化後處理,有利於生產流程的安排。本發明復提供此種不銹鋼的處理系統。



專利簡述 / Intellectual Properties:




 

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