以調整薄膜沈積速率的方法達到同時降低薄膜相變化溫度與控制薄膜結晶的方法
刊登日期:2014/05/21
  ‧ 專利名稱 合金的序化方法及其垂直記錄媒體的製作方法
  ‧ 公開號 201111532
US 2011-0070373 A1
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)
中華民國 (2009/09/23)
美國 (2010/02/05)
 
  ‧ 發明人/PI 袁輔德,孫安正,許仁華,張慶瑞,
  ‧ 單位 物理學系
  ‧ 簡歷/Experience
技術摘要 / Our Technology:
本發明提供一種合金的序化方法,包含:於形成一具有一(M1/M2)n或(M1/M2)n/M1多層膜結構之非序化合金膜的同時對該非序化合金膜實施退火處理,以使得該非序化合金膜自一非序化的結晶態轉變成一序化的結晶態;其中,該多層膜結構的每一M1層與每一M2層具有一至少低於0.3nm的膜層厚度。本發明亦經由前述之合金的序化方法提供一種垂直記錄媒體的製作方法。

A method for forming an ordered alloy includes: (a) forming a layer of a first metal with a layer thickness of less than 0.3 nm over a substrate; (b) forming a layer of a second metal with a layer thickness of less than 0.3 nm on the layer of the first metal under an elevated temperature sufficient to cause interdiffusion of atoms of the first and second metals between the layer of the first metal and the layer of the second metal so as to form the ordered alloy; and (c) repeating steps (a) and (b) until a predetermined layer thickness of the ordered alloy is achieved.





專利簡述 / Intellectual Properties:




 

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