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光譜分析裝置及其製造方法

刊登日期：2017/06/01

‧ 專利名稱	光譜分析裝置及其製造方法
‧ 專利證書號	I585376
‧ 專利權人	國立臺灣大學
‧ 專利國家 (申請日)	中華民國 (2016/04/20)
‧ 發明人	林清富, 薛華毅, 陳立錚, 鄭竣中,

技術摘要：

本發明相關於一種光譜分析裝置及其製作方法，特別是有關一種非光子晶體共振腔搭配光偵測材料組成的高解析度光譜分析儀晶片及其製作方法。此光譜分析裝置包含一基板、至少一設置於基板上的光學共振腔、以及至少一光偵測材料區塊設置於基板上的特定區域，此光譜分析儀晶片不需形成Ⅲ-Ⅴ族吸光層結構，可大幅降低製造成本，同時可彈性搭配成熟半導體製程技術，降低元件表面粗糙度，優化光譜儀晶片之解析度。

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