 技術摘要： |
本發明實施例提供一種導電薄膜的製造方法，包含在一基板上，以溶液法形成一第一金屬氧化物層；接著，以非溶液法或溶液法形成一無銦金屬層於第一金屬氧化物層上；接著，以溶液法形成一第二金屬氧化物層於無銦金屬層上。
An embodiment of this invention provides a method to produce a conductive thin film, which comprises: providing a substrate; forming a first metal oxide layer on the substrate; forming an indium-free metal layer on the first metal oxide layer; and forming a second metal oxide layer on the indium-free layer, wherein the first metal oxide layer, the indium-free metal layer, and the second oxide layer are all solution processed.
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