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ALD assisted non-resist charged particle beam patterning |
刊登日期:2016/07/11 |
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‧ 專利名稱 |
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‧ 專利證書號 |
I541860B 9934969B2 10615036B2
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‧ 專利權人 |
國立臺灣大學 |
‧ 專利國家
(申請日) |
美國 (2014/06/13) 中華民國 (2014/12/24) 美國 (2018/03/28)
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‧ 發明人 |
陳敏璋, 蔡坤諭, |
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技術摘要: |
提供一種製備一積體電路的製程。此製程包含提供一基板,並使用原子層沉積或分子層沉積以形成一硬罩幕於基板上。接著暴露硬罩幕於一或多個帶電粒子束的一帶電粒子中,以圖案化一間隙於硬罩幕中。另一方面,此製程包含暴露硬罩幕於一或多個帶電粒子束的一帶電粒子中,以圖案化一結構於硬罩幕上。
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聯繫方式 |
聯絡人:
研發處產學合作總中心 |
電話:
(02)3366-9949 |
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地 址:
10617臺北市大安區羅斯福路四段1號 禮賢樓六樓608室 |
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