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以微分脈衝福安法將氯離子導入牙釉質
 刊登日期：2016/04/12
  ‧ 專利名稱 氟離子電滲入裝置
  ‧ 專利證書號 I614001
US9867984B2
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)		 中華民國 (2014/10/20)
美國 (2015/06/20)
 
  ‧ 發明人/PI 李伯訓,張哲政,
  ‧ 單位 牙醫學系
  ‧ 簡歷/Experience
技術摘要 / Our Technology：
本發明係關於一種脈衝式氟離子電滲入裝置，包括至少一電極裝置，其內包括至少一電極元件及一含氟電解質，該至少一電極元件係操作以接受一電動勢以將該含氟電解質驅動至一生物介面；以及一電源裝置，係電性連接至該電極裝置，並至少提供該至少一電極元件之一波形為週期性脈衝電壓。
專利簡述 / Intellectual Properties：



 

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