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 氧化物薄膜/亞波長陣列之抗反射結構及其製造方法
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刊登日期：2014/05/21 |
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| ‧ 專利名稱 |
抗反射結構及其製造方法 |
| ‧ 公開號 |
201122536
US 2011-0149399 A1
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| ‧ 專利權人 |
國立臺灣大學 |
‧ 專利國家
(申請日) |
中華民國 (2009/12/18)
美國 (2010/05/05)
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| ‧ 發明人/PI |
彭隆瀚,巫漢敏,
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| ‧ 單位 |
光電工程學研究所
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| ‧ 簡歷/Experience |
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| 技術摘要 / Our Technology： |
本發明提供一種抗反射結構及其製造方法，上述抗反射結構包括一基板，其具有複數個彼此相鄰的突形結構，以供一光線入射；一介電結構層，覆蓋上述些突形結構上。
The embodiment provides an antireflection structure and a method for fabricating the same. The antireflection structure includes a substrate having a plurality of protruding structures adjacent to one another, thereby allowing light to transmit through. And a dielectric structural layer covers a plurality of the protruding structures.
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| 專利簡述 / Intellectual Properties： |
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聯繫方式 / Contact： |
| 臺大產學合作總中心 / Center of Industry-Academia Collaboration, NTU |
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| Email：ordiac@ntu.edu.tw |
電話/Tel：02-3366-9945 |
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