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 感光性高折射率氧化鈦混成材料之製備方法以及由該方法製備之薄膜
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刊登日期：2014/05/21 |
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| ‧ 專利名稱 |
感光性高折射率氧化鈦混成材料之製備方法以及由該方法製備之薄膜 |
| ‧ 公開號 |
201002787
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| ‧ 專利權人 |
國立臺灣大學 |
‧ 專利國家
(申請日) |
中華民國 (2008/07/09)
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| ‧ 發明人/PI |
陳文章,蘇鴻文,
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| ‧ 單位 |
高分子科學與工程學研究所
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| ‧ 簡歷/Experience |
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| 技術摘要 / Our Technology： |
本發明有關一種製造感光性高折射率之奈米混成材料之方法，包括使烷氧化鈦進行酸性水解縮合形成奈米級顆粒，隨後將其表面丙烯酸官能基化，獲得氧化鈦-丙烯酸化奈米顆粒，接著與具親水性與感光性之聚丙烯酸接枝之聚甲基丙烯酸乙二醇酯反應，而獲得感光性高折射率之氧化鈦奈米混成材料。依據本發明之方法製備之感光性高折射率之氧化鈦奈米混成材料由於氧化鈦-丙烯酸化奈米顆粒與聚丙烯酸接枝之聚甲基丙烯酸乙二醇酯之間具有適當之共價鍵作用，故不會產生相分離且其製成薄膜時在可見光之穿透率高，而可作為負型光阻。
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| 專利簡述 / Intellectual Properties： |
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聯繫方式 / Contact： |
| 臺大產學合作總中心 / Center of Industry-Academia Collaboration, NTU |
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| Email：ordiac@ntu.edu.tw |
電話/Tel：02-3366-9945 |
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