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 近場超解析載(蓋)玻片
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刊登日期：2014/05/21 |
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| ‧ 專利名稱 |
近場超解析載(蓋)玻片 |
| ‧ 專利證書號 |
190571
US6,737,167
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| ‧ 專利權人 |
國立臺灣大學 |
‧ 專利國家
(申請日) |
中華民國 (2002/05/13)
美國 (2002/12/02)
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| ‧ 發明人/PI |
蔡定平,林宇軒,
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| ‧ 單位 |
物理學系
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| ‧ 簡歷/Experience |
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| 技術摘要 / Our Technology： |
本發明係為一種近場超解析之載(蓋)玻片，係由一透光基板以及披覆於透光基板上的至少三層薄膜層所組成，此三層薄膜層包含一層可產生非線性近場光學侷域作用之奈米結構層，以及保護及維持此奈米結構層的第一、第二透光介電質薄膜層；藉此構成，此載(蓋)玻片在一般掃描式光學顯微鏡上使用，即可對奈米尺度的生物組織、微小顆粒結構樣品實現超越繞射極限的空間解析度。
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| 專利簡述 / Intellectual Properties： |
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聯繫方式 / Contact： |
| 臺大產學合作總中心 / Center of Industry-Academia Collaboration, NTU |
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| Email：ordiac@ntu.edu.tw |
電話/Tel：02-3366-9945 |
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