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 結合顯示器極化遍及彩色濾光片為一片的極化彩色濾光片技術
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刊登日期：2014/05/21 |
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| ‧ 專利名稱 |
製作極化彩色濾光片的方法 |
| ‧ 專利證書號 |
I470287
8795932
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| ‧ 專利權人 |
國立臺灣大學 |
‧ 專利國家
(申請日) |
中華民國 (2012/03/16)
美國 (2012/06/22)
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| ‧ 發明人/PI |
李嗣涔,莊方慈,江昱維,陳鴻欣,
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| ‧ 單位 |
電子工程學研究所
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| ‧ 簡歷/Experience |
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| 技術摘要 / Our Technology： |
本發明提供一種方法，其步驟包括：首先，提供一透明基板，該透明基板上塗佈有一光阻層。接著，備製一波浪狀光罩，該波浪狀光罩具有一週期性波浪狀表面以及與該週期性波浪狀表面相對的平坦表面。然後，將該週期性波浪狀表面與該光阻層接觸。之後，對該光阻層進行第一次曝光。再對該波浪狀光罩施予一外力。將該透明基板旋轉一預設角度。對該光阻層進行第二次曝光。接著，對該光阻層進行顯影步驟，使該光阻層圖案化為一光阻圖案層。於具有該光阻圖案層的該透明基板上鍍一層金屬層。最後，去除該光阻圖案層以及該光阻圖案層上的部份該金屬層，使剩餘的該金屬層於該透明基板上形成一週期性孔洞結構。
A method of fabricating a polarized color filter wherein a transparent substrate is provided and coated with a photoresist layer. A wave-shaped mask may then be prepared and a periodic wave-shaped surface may be placed in contact with the photoresist layer, treating the photoresist layer with a primary exposure process. An external force may be applied to the wave-shaped mask, and the transparent substrate or wave-shaped mask by be rotated by a predetermined degree. The photoresist layer may be treated with a secondary exposure process, wherein the photoresist layer is developed in order to obtain a photoresist pattern layer. A metal layer may be coated on the transparent substrate with the photoresist pattern layer. The photoresist pattern layer and the portion of the metal layer on the photoresist pattern layer may then be removed such that the remaining metal layer forms a periodic hole substrate.
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| 專利簡述 / Intellectual Properties： |
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聯繫方式 / Contact： |
| 臺大產學合作總中心 / Center of Industry-Academia Collaboration, NTU |
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| Email：ordiac@ntu.edu.tw |
電話/Tel：02-3366-9945 |
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