一種控制顯影時間與溫度之電子束微影顯影技術
刊登日期:2018/04/11
  ‧ 專利名稱 電子束微影方法及其系統
  ‧ 專利證書號 I620996
10115563
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)
中華民國 (2016/11/30)
美國 (2017/06/01)
 
  ‧ 發明人/PI 管傑雄,粘群,蘇文生,張立成,鍾政桓,饒偉正,葉修昀,張韶文,沈冠源
  ‧ 單位 電子工程學研究所
  ‧ 簡歷/Experience
技術摘要 / Our Technology:
一種電子束微影方法,包含以下步驟。經由圖案尺寸模擬系統運算且輸出正型電子敏感層之顯影持續時間與電子束裝置之條件參數。低溫處理顯影液以冷卻顯影液。依據圖案尺寸模擬系統所輸出之條件參數,使用電子束以照射正型電子敏感層之曝光區。依據圖案尺寸模擬系統所輸出之顯影持續時間,使用已冷卻之顯影液顯影正型電子敏感層之顯影區,顯影區係位於曝光區內,且顯影區的面積係小於曝光區的面積。如此一來,上述電子束微影方法可較精確地控制正型電子敏感層之顯影圖案尺寸,亦可有效地縮小正型電子敏感層之顯影圖案的最小尺寸。




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