[68Ga]GaCl3之處理裝置套件及68Ga正子放射性同位素標誌之標誌套件與其用途(Processing Kit of [68Ga]GaCl3 , Labelling Kit of 68Ga-labelling and uses thereof)
刊登日期:2019/10/01
  ‧ 專利名稱 一種[68Ga]三氯化鎵溶液的處理裝置及處理方法以及68Ga正子放射性同位素標誌的標誌裝置及標誌方法
  ‧ 專利證書號 I717590
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)
中華民國 (2018/03/16)
 
  ‧ 發明人/PI 顏若芳,黃雅瑤,游智媜
  ‧ 單位 醫學系 放射線科
  ‧ 簡歷/Experience
技術摘要 / Our Technology:
本發明提供一種[ 68 Ga]三氯化鎵溶液的處理裝置及處理方法以及 68 Ga正子放射性同位素標誌的標誌裝置及標誌方法。




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