平面光柵干涉儀
刊登日期:2014/05/21
  ‧ 專利名稱 平面光柵干涉儀
  ‧ 專利證書號 M455158
  ‧ 專利權人 臺大
  ‧ 專利國家
    (申請日)
中華民國 (2012/12/14)
 
  ‧ 發明人/PI 范光照,鍾一正,
  ‧ 單位 機械工程學系
  ‧ 簡歷/Experience
技術摘要 / Our Technology:
一種平面光柵干涉儀,其包括反射式二維光柵以及兩個量測單元。反射式二維光柵位於彼此垂直的第一軸與第二軸所構成的平面,且適於沿第一軸及第二軸移動。每一量測單元包括發光元件以及干涉模組,發光元件適於提供光束。干涉模組配置於光束的光路徑上,且將光束分成第一光束與第二光束,並接收由反射式二維光柵返回的這些光束。這些量測單元其中之一的干涉模組適於根據接收到的這些光束分析反射式二維光柵沿第一軸的位移量;其中另一干涉模組則適於分析反射式二維光柵沿第二軸的位移量。



專利簡述 / Intellectual Properties:




 

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