高深寬比微結構光學量測系統
刊登日期:2023/07/01
  ‧ 專利名稱 高深寬比微結構光學量測系統
  ‧ 專利證書號 I807653
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)
中華民國 (2022/02/23)
 
  ‧ 發明人/PI 陳亮嘉,伍國瑋,簡維信,
  ‧ 單位 機械工程學系
  ‧ 簡歷/Experience
技術摘要 / Our Technology:
一種高深寬比微結構光學量測系統,包括一光源模組、一光學鏡組以及空間調製元件,該光源模組具有一第一特徵尺寸以產生具有一第一發散角度的一偵測光,該光學鏡組接收該偵測光,並將該偵測光投射到一待測物上,該空間調製元件設置在光源模組與光學鏡組之間,該空間調製元件具有一第二特徵尺寸的一開口,其中通過該開口中心的偵測光具有一第二發散角度。其中,該第一特徵尺寸與該第一發散角度的乘積近似於或等於該第二特徵尺寸與該第二發散角度的乘積。



專利簡述 / Intellectual Properties:




 

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