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 曝光系統
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刊登日期：2014/05/21 |
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| ‧ 專利名稱 |
電子束曝光裝置電子束產生裝置及曝光方法 |
| ‧ 專利證書號 |
I410757
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| ‧ 專利權人 |
國立臺灣大學 |
‧ 專利國家
(申請日) |
中華民國 (2010/06/18)
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| ‧ 發明人/PI |
郭宇軒,蘇明信,盧奕璋,蔡坤諭,
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| ‧ 單位 |
電子工程學研究所
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| ‧ 簡歷/Experience |
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| 技術摘要 / Our Technology： |
本發明有關於一種電子束產生裝置，主要包括有複數個電子束元件，其中各個電子束元件由複數個電子束產生單元所組成。各個電子束產生單元包括有一電子束源及一電子束光學系統，可用以產生電子束並改變電子束的偏折方向。本發明主要是透過半導體製程的方式製作電子束元件，不僅可以較低的成本大量製作電子束元件，同時亦可提高單位面積上之電子束產生單元的數量，有利於縮短電子束產生裝置對晶圓進行曝光所需要的時間。
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| 專利簡述 / Intellectual Properties： |
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聯繫方式 / Contact： |
| 臺大產學合作總中心 / Center of Industry-Academia Collaboration, NTU |
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| Email：ordiac@ntu.edu.tw |
電話/Tel：02-3366-9945 |
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