一種高熵/中熵合金之晶粒細化方法
刊登日期:2021/01/11
  ‧ 專利名稱 一種高熵/中熵合金之晶粒細化方法
  ‧ 專利證書號 I716301
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)
中華民國 (2020/03/23)
 
  ‧ 發明人/PI 楊哲人,陳品戎,邱柏翰,陳思妤,林佑諠
  ‧ 單位 材料科學與工程學系
  ‧ 簡歷/Experience
技術摘要 / Our Technology:
本發明係關於一種具備階層式雙晶結構之高熵/中熵合金,該種合金包括多組雙晶併存於合金中,這些併存的雙晶包括存在於母晶基地中的退火雙晶(annealing twin),以及變形雙晶(deformation twin),這些雙晶組織可以將母晶晶粒有效分割,達到晶粒細化的強化效果,並使加工硬化率提升,其中該退火雙晶的寬度較大,且不同退火雙晶彼此間距寬鬆不緊密,該形變雙晶的寬度較小,通常會大量且密集的出現,且不同變形雙晶彼此間距非常緊密。



專利簡述 / Intellectual Properties:




 

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