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製備L10相合金薄膜的方法

刊登日期：2014/05/21

‧ 專利名稱	製備L10相合金薄膜的方法
‧ 專利證書號	I274788
‧ 專利權人	國立臺灣大學
‧ 專利國家 (申請日)	美國 (2004/07/29) 中華民國 (2004/12/10)

‧ 發明人/PI	張慶瑞 ,郭博成 ,黃暉理,許仁華,孫安正,陳勝吉,周群淵,李長泰,張晃暐 ,
‧ 單位	物理學系
‧ 簡歷/Experience

技術摘要 / Our Technology：

本發明是提供一種用於製備一L10相合金薄膜的方法。該方法包含以下步驟：(a)提供一基材；(b)以一第一溫度，加熱該基材一段時間，使其成為一預熱基材，其中該第一溫度之範圍是自100℃至600℃，而該段時間之範圍是自5分鐘至120分鐘；(c)沈積一合金薄膜於該預熱基材上；以及(d)以一第二溫度，將該合金薄膜進行退火以形成該L10相合金薄膜，其中該第二溫度之範圍是自200℃至500℃。

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