染料薄膜及其形成方法
  ‧ 專利名稱 染料薄膜及其形成方法
  ‧ 專利證書號 I275908
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)
中華民國 (2004/11/30)
  ‧ 發明人 謝國煌, 邱文英, 郭國輝, 陳偉源, 張凱齊, 徐傳浩,
 
技術摘要:
本發明揭示了二種染料薄膜,第一種染料薄膜係藉由複數個反應性染料化合物直接相互鍵結(藉由化學反應或吸引力,其中吸引力更包含離子錯合與氫鍵,以下所有之“鍵結”皆為此意)所形成。第二種染料薄膜包含一具有可固化性質之改質基材與一形成於改質基材上之反應性染料化合物,其中,藉由改質基材之第一反應鍵結導入反應性染料化合物,且反應性染料化合物亦可自身相互鍵結。此外,本發明揭示了染料薄膜的形成方法。



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