光敏性配方及其形成方法
  ‧ 專利名稱 光敏性配方及其形成方法
  ‧ 專利證書號 I275598
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)
中華民國 (2004/11/30)
  ‧ 發明人 林唯芳, 呂日祥, 謝國煌,
 
技術摘要:
本發明揭示了一種光敏性配方,其包含一第一成份、一第二成份與一第三成份。上述之第一成份更包含至少一種具有複數個壓克力官能基之丙烯酸酯單體。其次,第二成份係藉由具有一壓克力官能基之丙烯酸酯單體、一耦合劑與一金屬醇鹽所聚合而成,其中,耦合劑之一端具有一壓克力官能基以彼此鍵結且/或鍵結具有一壓克力官能基之丙烯酸酯單體,且耦合劑之另一端具有至少一個矽氧烷基,藉此與金屬醇鹽進行水解縮合反應。最後,第三成份更包含至少一種起始劑。



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