應用於樹酯型黑色矩陣之鹼可洗樹酯及其黑色矩陣組成物
  ‧ 專利名稱
  ‧ 專利證書號
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)
中華民國 (2007/02/27)
  ‧ 發明人 謝國煌, 邱文英, 郭國輝, 徐傳浩, 彭郁翔, 陳文仁,
 
技術摘要:
一種應用於樹脂型黑色矩陣之鹼可洗樹脂及其黑色矩陣組成物。鹼可洗樹脂具有以Epoxy acrylate上的氫氧基與不同種類的酸酐(例如BTDA)反應形成之骨架,及含isocyanate官能基之單體所形成之側鏈。黑色矩陣組成物可包含一種鹼可洗樹脂,或調配兩種不同鹼可洗樹脂與碳黑、分散劑、光起始劑配製出樹脂型黑色矩陣光阻。



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