改變表面漸逝波共振狀況之對稱或不對稱奈米複層膜結構
  ‧ 專利名稱 改變表面漸逝波共振狀況之對稱或不對稱奈米複層膜結構
  ‧ 專利證書號 203961
US6,870,237 B1
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)
中華民國 (2003/07/01)
美國 (2003/08/26)
  ‧ 發明人 林啟萬, 林世明, 張培仁, 黃振剛, 李世光, 李舒昇,
 
技術摘要:
本發明改變表面漸逝波共振狀況之對稱與不對稱奈米複層膜結構,係在表面電漿共振(Surface Plasmon Resonance,SPR)晶片上設置一對稱與不對稱之奈米複層薄膜結構。俾藉由此奈米複層薄膜結構之設計,達到改變 SPR共振之角度或波長之目的,以使SPR晶片更適用於掃描機械結構的最佳化或可攜式儀器之未來發展。
A symmetric or asymmetric multilayer structure based on the technique of surface plasmon resonance (SPR) has been applied for modulation of resonant angle and wavelength. The fabrication of this invention can have nanoscale thin film layers up to several hundreds, while each layer has its own material of a high or low refractive index value, and the total layers in a thickness of tens to hundreds nanometers are grown in this single structure. This invention is intended for optimizing the scanning of mechanism by modulating SPR resonant angle and wavelength, and for developing the prospect of portable instruments.



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