|
 Method for manufacuring low-k films by using basic solution
|
刊登日期：2014/05/21 |
|
|
|
|
|
| ‧ 專利名稱 |
以鹼式法製造低介電係數層之方法 |
| ‧ 專利證書號 |
I451495
|
| ‧ 專利權人 |
國立臺灣大學 |
‧ 專利國家
(申請日) |
中華民國 (2010/12/13)
美國 (2011/03/04)
|
|
|
| |
| ‧ 發明人/PI |
萬本儒,呂信彥,鄧志霖,龔建豪,游竣偉,柳佑樵,余俊賢,
|
| ‧ 單位 |
化學工程學系
|
| ‧ 簡歷/Experience |
|
|
| 技術摘要 / Our Technology： |
在此揭露一種以鹼式法形成一低介電係數層之方法。此方法包括下步驟：(a)混合四烷氧矽烷、乙醇、氫氧化四烷銨及水以形成第一混合物；(b)加熱第一混合物以形成含有複數個非結晶含矽顆粒之第二混合物，加熱時間少於約36小時，且非結晶含矽顆粒之粒徑小於約10nm；(c)於第二混合物中加入一界面活性劑以形成一膠體溶液，膠體溶液中之界面活性劑的重量百分濃度為約1%至約20%；(d)將膠體溶液塗佈在基材上，並在基材上形成一膠體層；以及(e)加熱膠體層至一定條件，以將膠體層轉變為低介電係數層。
|
| 專利簡述 / Intellectual Properties： |
|
| |
聯繫方式 / Contact： |
| 臺大產學合作總中心 / Center of Industry-Academia Collaboration, NTU |
|
| Email：ordiac@ntu.edu.tw |
電話/Tel：02-3366-9945 |
|
|
| |
|
| |
 |
專利行銷平台