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 光學微影曝光系統及其曝光方法
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刊登日期：2014/05/21 |
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| ‧ 專利名稱 |
光學微影曝光系統及其曝光方法 |
| ‧ 專利證書號 |
I407269
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| ‧ 專利權人 |
台大/工研院 |
‧ 專利國家
(申請日) |
中華民國 (2010/12/03)
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| ‧ 發明人/PI |
顏家鈺,陳聯聖,陳永彬,鍾添東,陳炳宏,趙俞婷,
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| ‧ 單位 |
機械工程學系
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| ‧ 簡歷/Experience |
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| 技術摘要 / Our Technology： |
一種光學微影曝光系統及其曝光方法，係利用光束將圖案曝光至基材上，包括：具有一轉軸並以該轉軸為中心旋轉之滾筒、繞設於該滾筒外表面之基材、滾筒操控設備及光路操控設備。滾筒操控設備量測該滾筒並依據所量測的結果操控該滾筒，以補償該滾筒以該轉軸為中心旋轉所產生的位置及/或姿態的改變。光路操控設備包括將該光束分為曝光用光束和量測用光束之光學元件組和承載該光學元件組之移動平台，且移動平台平行該滾筒的轉軸軸心方向進行線性移動以使該曝光用光束和該滾筒之間產生相對運動而將該圖案曝光至該基材上，並依據該滾筒操控設備所量測的結果而補償該滾筒於旋轉過程中的位置及/或姿態的改變。據此，可提高曝光至基材上的圖案的精密度。
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| 專利簡述 / Intellectual Properties： |
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聯繫方式 / Contact： |
| 臺大產學合作總中心 / Center of Industry-Academia Collaboration, NTU |
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| Email：ordiac@ntu.edu.tw |
電話/Tel：02-3366-9945 |
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