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材料科學與工程學系 -
陳敏璋
專業技術:
半導體電子與光電材料、奈米材料技術
研究介紹
◎研究及專業領域
1.Atomic layer deposition
2.ZnO photonics
3.High-K/metal gate
4.Efficient Si light-emitting diodes
5.Nanoplasmonics and surface enhanced Raman scattering
專利授權區
Transfer-free, direct growth of graphene by atomic layer deposition on oxide surface
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High electron mobility transistors
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金屬通道電晶體Metallic transistors prepared by the atomic layer deposition and doping techniques
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Ferroelectric inductance
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化學氣相沉積設備
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前驅物循環式原子層沉積設備與方法
一種原子層沉積設備,包含一或多個內循環機構、一或多個待鍍物、一或多個進氣管線,以及一或多個氣體擾動......
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Ferroelectoricity and antiferroelectoricity in oxide thin films
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ALD assisted non-resist charged particle beam patterning
提供一種製備一積體電路的製程。此製程包含提供一基板,並使用原子層沉積或分子層沉積以形成一硬罩幕於基板......
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Atomic layer engineering on resistive switching in AlN resistive random access memory
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使用原子層沉積技術成長氧化鋅/氧化鋅鎂磊晶薄膜與量子井及其光學性質之研究
本發明揭露一種氧化鋅基半導體發光元件及其製造方法。根據本發明之製造方法,首先,係製備一基材。接著,藉......
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Fabrication of tin structure based on ALD-assisted non-resist trench nanolithography
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III-V半導體鐵電異質結構
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化學氣相沉積系統與方法
本案提供一種化學氣相沉積系統與方法。於前驅物參與化學反應前,對其導入特定能量,使控制前驅物的物理特性......
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反鐵電電容(ANTIFERROELECTRIC CAPACITOR)
本公開提出具有一或多個界面層/反鐵電層/界面層堆疊結構的反鐵電電容器。所提出的結構能使反鐵電晶體......
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無阻擋層選擇性離子層沉積/Inhibitor-Free Area-selective Atomic Layer Deposition
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Self-focused ion beam lithography using dielectric lens
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金氧半導體元件中矽半導體與閘極絕緣層介面品質檢測系統與方法
一種金氧半導體元件中矽半導體與閘極絕緣層介面品質的檢測方法,其係施加一電流經由閘極至一金氧半導體元件......
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Area-selective Atomic Layer Deposition
一種方法包括在晶片上形成虛設閘極結構。閘極間隔物形成在虛設閘極結構的任一側上。去除虛設閘極結構以在閘......
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太陽能電池及其製造方法
一種太陽能電池的製造方法,包括以下步驟。首先,提供第一導電型的矽晶片,其中矽晶片具有彼此相對的第一表......
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n-MOSFET低電壓操作的氮化鈦TiN金屬閘極(Modulation of the work function of TiN metal gate for n-type MOSFETs)
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SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
一種製造半導體裝置的方法,包括形成鰭結構,鰭結構包括位於基板上方的交替堆疊的多個第一半導體層與多個第......
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用於化學氣相沉積的托盤
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Precise Digital Etching with High Conformity
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高效率矽發光二極體及其製造方法
本發明係揭露一種基於奈米晶粒之光電元件及其製造方法,例如,發光二極體、光偵測器、太陽能電池,等光電元......
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Ferroelectoricity in Nanoscale Thin Films Prepared by Atomic Layer Deposition
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可交易技術