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 可撓曲之多孔鎳氧化釔安定化氧化鋯陽極電極薄層之製法
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刊登日期：2014/05/21 |
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| ‧ 專利名稱 |
可撓曲之多孔鎳-氧化釔安定化氧化鋯陽極電極薄層之製法 |
| ‧ 專利證書號 |
I243216
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| ‧ 專利權人 |
國立臺灣大學 |
‧ 專利國家
(申請日) |
中華民國 (2003/03/24)
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| ‧ 發明人/PI |
韋文誠,楊志忠,
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| ‧ 單位 |
材料科學與工程學系
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| ‧ 簡歷/Experience |
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| 技術摘要 / Our Technology： |
本發明揭示一種利用複合電鍍法，將含有細微聚結之氧化釔安定化氧化鋯顆粒加入鎳電鍍液中，在銅或ITO/PET(氧化銦鍚/聚對苯二甲酸二乙酯)電極板上，電鍍製備出具有成分及孔隙率梯度之Ni-YSZ複合層，可用於固態氧化物燃料電池之陽極。該複合電極薄層在應用的條件下，亦即5vol%的氫氣還原性氣氛下，800℃退火處理1至10小時，並未發現到鎳相形成球體，或與氧化鋯脫離(de-lamination)之缺點。該陽極薄片可折疊，而且此薄層與銅電極或ITO/PET板在電鍍完成後並無脫層的現象，亦可形成種種不同的立體(3D)電極結構。
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| 專利簡述 / Intellectual Properties： |
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聯繫方式 / Contact： |
| 臺大產學合作總中心 / Center of Industry-Academia Collaboration, NTU |
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| Email：ordiac@ntu.edu.tw |
電話/Tel：02-3366-9945 |
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