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石墨烯層轉印之方法 |
刊登日期:2016/02/11 |
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‧ 專利名稱 |
石墨烯層轉印之方法 |
‧ 專利證書號 |
I520901
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‧ 專利權人 |
國立臺灣大學 |
‧ 專利國家
(申請日) |
中華民國 (2013/09/03)
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‧ 發明人 |
林偉翔, 陳廷卉, 蘇維彬, 吳志毅, 張嘉升, |
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技術摘要: |
本發明係提供一種石墨烯層轉印之方法,其包含下列步驟:(a)提供支撐架;(b)將支撐架置於蝕刻液之中;(c)將批覆石墨烯層之第一基板置於支撐架中進行蝕刻;(d)將蝕刻液置換為水溶液;(e)將第二基板置於水溶液之中;(f)將石墨烯層轉印於第二基板上.其中,本發明之方法無須使用高分子材料作為支撐層,除避免傳統方式容易有高分子殘留之缺點,仍具備優異的材料性質.
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聯繫方式 |
聯絡人:
研發處產學合作總中心 |
電話:
(02)3366-9949 |
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地 址:
10617臺北市大安區羅斯福路四段1號 禮賢樓六樓608室 |
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