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在不銹鋼表面形成貧鉻層之活化處理與低溫氣體滲碳滲氮處理 |
刊登日期:2015/08/16 |
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‧ 專利名稱 |
不銹鋼表面處理方法及不銹鋼處理系統 |
‧ 專利證書號 |
I548778
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‧ 專利權人 |
國立臺灣大學 |
‧ 專利國家
(申請日) |
中華民國 (2014/02/11)
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‧ 發明人 |
陳永傳, 楊宗澤, |
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技術摘要: |
一種不銹鋼表面處理方法,包括將表面具有鈍化膜之不銹鋼置於一溫度維持在450至650℃且含水蒸氣及鹽酸蒸氣之加熱爐中,加熱5至10分鐘,以移除該鈍化膜,並於該經移除鈍化膜之不銹鋼表面形成貧鉻層。該經處理之不銹鋼在大氣中放置多天後還能夠實施低溫滲碳或滲氮,達到顯著的表面硬化效果,大幅改善其耐磨性,而且不降低耐蝕性。由於可分開進行活化前處理和硬化後處理,有利於生產流程的安排。本發明復提供此種不銹鋼的處理系統。
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聯繫方式 |
聯絡人:
研發處產學合作總中心 |
電話:
(02)3366-9949 |
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地 址:
10617臺北市大安區羅斯福路四段1號 禮賢樓六樓608室 |
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