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高集成度兆赫波雷射光源系統的單一製程整合方法

刊登日期：2021/07/21

‧ 專利名稱	用於產生兆赫輻射的裝置的製造方法
‧ 專利證書號	I734567 US11177633B1
‧ 專利權人	國立臺灣大學
‧ 專利國家 (申請日)	中華民國 (2020/07/24)
‧ 發明人	吳肇欣, 林詩堃, 陳熙涵,

技術摘要：

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