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 基於圖案製作真確度之圖案製作系統設計方法與裝置
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刊登日期：2014/05/21 |
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| ‧ 專利名稱 |
基於圖案製作真確度之圖案製作系統設計方法與裝置 |
| ‧ 專利證書號 |
I439822
8490033
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| ‧ 專利權人 |
國立臺灣大學 |
‧ 專利國家
(申請日) |
中華民國 (2011/07/22)
美國 (2012/05/23)
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| ‧ 發明人/PI |
蔡坤諭,陳勝勇,伍海濤,馬學億,
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| ‧ 單位 |
電機工程學系
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| ‧ 簡歷/Experience |
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| 技術摘要 / Our Technology： |
一種直接考慮圖案製作真確度之圖案製作系統的設計方法。依據一組設計參數模擬目標圖案的製作結果以得到一模擬圖案。藉由比較目標圖案與該模擬圖案，以計算出一圖案製作真確度，並依據目標圖案製作真確度調整圖案製作系統的設計參數，以最佳化該圖案製作系統之設計參數。
A method which directly incorporates patterning fidelity into the design of a patterning system is provided. A production result of a target pattern is simulated according to a set of design parameters to obtain a simulated pattern. The target pattern is compared with the simulated pattern to obtain a patterning fidelity, and the values of the set of design parameters of the patterning system are adjusted according to a target patterning fidelity to optimize the values of the set of design parameters of the patterning system.
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| 專利簡述 / Intellectual Properties： |
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聯繫方式 / Contact： |
| 臺大產學合作總中心 / Center of Industry-Academia Collaboration, NTU |
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| Email：ordiac@ntu.edu.tw |
電話/Tel：02-3366-9945 |
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