recovery of doping concentration by laser annealing after Gate-formation process
刊登日期:2018/09/04
  ‧ 專利名稱
  ‧ 專利證書號 10068995B2
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)
美國 (2016/07/14)
中國 (2016/10/25)
中華民國 (2016/10/25)
 
  ‧ 發明人/PI 劉致為,
  ‧ 單位 台積電-臺灣大學聯合研發中心
  ‧ 簡歷/Experience
技術摘要 / Our Technology:




專利簡述 / Intellectual Properties:




 

聯繫方式 / Contact:
臺大產學合作總中心 / Center of Industry-Academia Collaboration, NTU
Email:ordiac@ntu.edu.tw 電話/Tel:02-3366-9945