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 前驅物循環式原子層沉積設備與方法
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刊登日期：2022/07/21 |
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| ‧ 專利名稱 |
前驅物循環式原子層沉積設備與方法 |
| ‧ 專利證書號 |
I771939
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| ‧ 專利權人 |
國立臺灣大學 |
‧ 專利國家
(申請日) |
中華民國 (2021/03/04)
中國 (2022/03/04)
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| ‧ 發明人/PI |
陳敏璋,殷瑀彤,黃繼震
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| ‧ 單位 |
材料科學與工程學系
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| ‧ 簡歷/Experience |
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| 技術摘要 / Our Technology： |
一種原子層沉積設備，包含一或多個內循環機構、一或多個待鍍物、一或多個進氣管線，以及一或多個氣體擾動裝置。一或多個待鍍物設置於每個內循環機構內。進氣管線在一製程循環(cycle)的不同時段提供一前驅物氣體至每個內循環機構內，前驅物氣體包含一前驅物及至少一載氣。氣體擾動裝置提供動力使該前驅物氣體在該內循環機構內循環流動。
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| 專利簡述 / Intellectual Properties： |
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聯繫方式 / Contact： |
| 臺大產學合作總中心 / Center of Industry-Academia Collaboration, NTU |
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| Email：ordiac@ntu.edu.tw |
電話/Tel：02-3366-9945 |
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