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化學氣相沉積系統與方法
 刊登日期：2023/01/21
  ‧ 專利名稱 化學氣相沉積系統與方法
  ‧ 專利證書號 I790943
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)		 中華民國 (2022/03/11)
 
  ‧ 發明人/PI 陳敏璋,殷瑀彤,黃繼震
  ‧ 單位 材料科學與工程學系
  ‧ 簡歷/Experience
技術摘要 / Our Technology：
本案提供一種化學氣相沉積系統與方法。於前驅物參與化學反應前，對其導入特定能量，使控制前驅物的物理特性、化學特性、及/或參與化學反應時的反應行為。
專利簡述 / Intellectual Properties：



 

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