一種駐極體材料及其製法 (駐極體材料、駐極體揚聲器及其製造方法)
刊登日期:2014/05/21
  ‧ 專利名稱 (ITRI編號P01970006TWC2)駐極體薄膜之製造方法及包含該駐極體薄膜之揚聲器
  ‧ 專利證書號 I462598
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)
中華民國 (2009/07/01)
 
  ‧ 發明人/PI 李世光,柯文清,陳嘉倫,蕭文欣,吳文中 ,吳怡潔 ,李世元,
  ‧ 單位 應用力學研究所
  ‧ 簡歷/Experience
技術摘要 / Our Technology:




專利簡述 / Intellectual Properties:




 

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