週期性結構之製作方法、發光元件之製作方法及製髼作光電子元件之設備
  ‧ 專利名稱 週期性結構之製作方法、發光元件之製作方法及製髼作光電子元件之設備
  ‧ 專利證書號 8052883B2
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)
美國 (2008/05/06)
 
  ‧ 發明人/PI 楊志忠,陳正言,葉東明,林政宏,
  ‧ 單位 光電工程學研究所
  ‧ 簡歷/Experience
技術摘要 / Our Technology:
本發明提供一種發光元件之製作方法,包括以下步驟:提供一發光單元,至少包括一半導體層,提供一光調制單元(optical modulation element),以一光束通過光調制單元形成干涉條紋,照射於發光元件之第一型半導體層上,藉由干涉條紋,進行一光輔助電化學蝕刻製程,於半導體層形成週期性之結構,在一實施例中,該週期性之結構為光子晶體。 A method for forming a periodic structure is disclosed. A structural layer and an optical modulation element are provided. A light is emitted to pass through the optical modulation element to irradiate interference strips on the structural layer. A photoelectrochemical etching (PEC) is performed to form the periodic structure according the interference strips irradiated on the structural layer.  




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