專利公告 Patents
[68Ga]GaCl3之處理裝置套件及68Ga正子放射性同位素標誌之標誌套件與其用途(Processing Kit of [68Ga]GaCl3 , Labelling Kit of 68Ga-labelling and uses thereof)
刊登日期：2019/10/01
| ‧ 專利名稱 | 一種[68Ga]三氯化鎵溶液的處理裝置及處理方法以及68Ga正子放射性同位素標誌的標誌裝置及標誌方法 |
| ‧ 專利證書號 | I717590 |
| ‧ 專利權人 | 國立臺灣大學 |
| ‧ 專利國家 (申請日) |
中華民國 (2018/03/16) |
| ‧ 單位 | 醫學系 放射線科 |
| ‧ 發明人 / PI | 顏若芳,黃雅瑤,游智媜 |
| ‧ 簡歷 / Experience |
技術摘要 / Our Technology：
本發明提供一種[ 68 Ga]三氯化鎵溶液的處理裝置及處理方法以及 68 Ga正子放射性同位素標誌的標誌裝置及標誌方法。
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