近場超解析載(蓋)玻片
本發明係為一種近場超解析之載(蓋)玻片，係由一透光基板以及披覆於透光基板上的至少三層薄膜層所組成，此三層薄膜層包含一層可產生非線性近場光學侷域作用之奈米結構層，以及保護及維持此......
專利公告 Patents
氣體微熱壓印成型方法
提供一種使用高壓氣體進行微熱壓印(Hot Embossing)成型的方法，其係將待壓印標的平鋪於模具上，再以密閉腔蓋住使其成為一密閉空間；然後將溫度提高至待壓印標的達可塑性狀態......
僅寫一次型氧化鋅式近場光碟片
本創作係為一種僅寫一次型氧化鋅式近場光碟片，其結構係由一透光基板以及披覆於透光基板上之複數薄膜層所組成，此複數薄膜層包含一層可產生侷域近場光學作用之氧化鋅奈米薄膜層，一層僅寫一......
預錄型氧化鋅式近場光碟片
本創作係為一種預錄型氧化鋅式近場光碟片，其結構組成包含一具有凹坑記錄點之透光基板，一反射薄膜層，一可產生侷域近場光學作用之氧化鋅奈米薄膜層，以及保護和維持整體薄膜結構特性之第一......
