專利公告  Patents


1. [專利]

高深寬比微結構光學量測系統

中華民國 (2022/02/23),
創作人:陳亮嘉, 伍國瑋, 簡維信,

一種高深寬比微結構光學量測系統,包括一光源模組、一光學鏡組以及空間調製元件,該光源模組具有一第一特徵尺寸以產生具有一第一發散角度的一偵測光,該光學鏡組接收該偵測光,並將該偵測光投射到一待測物上,該空間調製元件設置在光源模組與光學鏡組之間,該空間調製元件具有一第 ...