專利公告 Patents
製造一氧化矽沉積物之方法及執行該方法之製造設備
刊登日期：2019/05/01
| ‧ 專利名稱 | 製造一氧化矽沉積物之方法及執行該方法之製造設備 |
| ‧ 專利證書號 | I658002 |
| ‧ 專利權人 | 國立臺灣大學 |
| ‧ 專利國家 (申請日) |
中華民國 (2018/08/15) |
| ‧ 單位 | 前瞻綠色材料高值化研究中心 |
| ‧ 發明人 / PI | 藍崇文, |
| ‧ 簡歷 / Experience |
技術摘要 / Our Technology：
本發明之方法係採用多顆二氧化矽殼/矽核複合粉體而非採用矽粉體與二氧化矽粉體，來反應成一氧化矽並昇華為一氧化矽蒸氣，再收集一氧化矽蒸氣將其冷卻成一氧化矽沉積物。
聯繫方式 / Contact：
臺大產學合作總中心 / Center of Industry-Academia Collaboration, NTU
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電話/Tel：02-3366-9945