專利公告 Patents
高深寬比微結構光學量測系統
刊登日期:2023/07/01
技術摘要 / Our Technology:
一種高深寬比微結構光學量測系統,包括一光源模組、一光學鏡組以及空間調製元件,該光源模組具有一第一特徵尺寸以產生具有一第一發散角度的一偵測光,該光學鏡組接收該偵測光,並將該偵測光投射到一待測物上,該空間調製元件設置在光源模組與光學鏡組之間,該空間調製元件具有一第二特徵尺寸的一開口,其中通過該開口中心的偵測光具有一第二發散角度。其中,該第一特徵尺寸與該第一發散角度的乘積近似於或等於該第二特徵尺寸與該第二發散角度的乘積。
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