專利公告 Patents
化學氣相沉積系統與方法
刊登日期：2023/01/21
| ‧ 專利名稱 | 化學氣相沉積系統與方法 |
| ‧ 專利證書號 | I790943 |
| ‧ 專利權人 | 國立臺灣大學 |
| ‧ 專利國家 (申請日) |
中華民國 (2022/03/11) |
| ‧ 單位 | 材料科學與工程學系 |
| ‧ 發明人 / PI | 陳敏璋,殷瑀彤,黃繼震 |
| ‧ 簡歷 / Experience |
技術摘要 / Our Technology：
本案提供一種化學氣相沉積系統與方法。於前驅物參與化學反應前，對其導入特定能量，使控制前驅物的物理特性、化學特性、及/或參與化學反應時的反應行為。
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