專利公告  Patents


一種鍍製金屬氧化物透明導電圖樣的技術

刊登日期:2024/03/01

 
  ‧ 專利名稱 透明導電圖樣的形成方法
  ‧ 專利證書號 I834267
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)
中華民國 (2022/08/30)
  ‧ 單位 機械工程學系 
  ‧ 發明人 / PI 莊嘉揚,李明蒼,
  ‧ 簡歷 / Experience

技術摘要 / Our Technology:

透明導電圖樣的形成方法包括以下步驟。提供基板。提供前驅物溶液,其中前驅物溶液包括形成透明導電圖樣的前驅物。前驅物通過電漿系統解離,並伴隨電漿系統產生的電漿噴出至基板。雷射光透過振鏡在基板上掃描,使受雷射光照射的基板被局部加熱。解離後的前驅物反應並沉積於被局部加熱的基板上,以形成透明導電圖樣。透明導電圖樣對應於雷射光的掃描路徑。


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