專利公告 Patents
一種多孔矽二維奈米材料的製備方法
刊登日期：2024/12/01
| ‧ 專利名稱 | 一種多孔矽二維奈米材料的製備方法 |
| ‧ 專利證書號 | I865050 |
| ‧ 專利權人 | 國立臺灣大學 |
| ‧ 專利國家 (申請日) |
中華民國 (2023/09/18) |
| ‧ 單位 | 化學工程學系 |
| ‧ 發明人 / PI | 藍崇文 |
| ‧ 簡歷 / Experience |
技術摘要 / Our Technology：
一種多孔矽二維奈米材料的製備方法，將CaSi2與AlCl3放入一反應器內，AlCl3相對於CaSi2為過量，接著加熱該反應器使該反應器內的溫度等於或高於AlCl3沸點，過量的AlCl3自CaSi2還原出Si、Al與CaAlCl5的一固態產物，反應後AlCl3以氣態存在於該反應器的上方，之後從該反應器一頂端向下逐漸冷卻，使被冷卻的該反應器的部分降低至AlCl3沸點以下的溫度，讓AlCl3在該反應器內從氣態轉變為固態，進而與該固態產物分離，以便回收再使用，而該固態產物可以透過酸洗而得到片狀矽的產物。
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