‧ 專利名稱	預錄型氧化鋅式近場光碟片
‧ 專利證書號	217900 特許4852686 CA2415450 US 7,027,386 B2 DE10261378
‧ 專利權人	國立臺灣大學
‧ 專利國家     (申請日)	中華民國 (2002/06/03) 日本 (2002/12/26) 加拿大 (2002/12/30) 美國 (2002/12/30) 德國 (2002/12/30)
‧ 單位	物理學系
‧ 發明人 / PI	蔡定平,林宇軒,林威志,張勛豪,
‧ 簡歷 / Experience

本創作係為一種預錄型氧化鋅式近場光碟片，其結構組成包含一具有凹坑記錄點之透光基板，一反射薄膜層，一可產生侷域近場光學作用之氧化鋅奈米薄膜層，以及保護和維持整體薄膜結構特性之第一、第二透光介電質薄膜層；藉此構成，使可產生侷域近場光學作用之氧化鋅奈米薄膜層，維持在與記錄凹坑訊號的近場光學作用範圍內，配合現有之光碟機讀取機制，來執行超高密度近場光學記錄之功能。

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