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[專利] 		鄰氨基苯甲酸衍生物做為基質輔助雷射脫附游離法的基質應用在質譜分析
美國 (2019/09/03), 美國 (2020/09/03),
創作人： 徐丞志, 周必泰, 李竹平, 黃鵬軒, 林立恩, 黃俊穎, 林大鈞,
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