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 Precise Digital Etching with High Conformity |
刊登日期：2017/09/26 |
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| ‧ 專利名稱 |
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| ‧ 專利證書號 |
9,773,662
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| ‧ 專利權人 |
國立臺灣大學 |
‧ 專利國家
(申請日) |
美國 (2016/06/03)
中華民國 (2016/11/09)
中國 (2017/05/17)
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| ‧ 發明人 |
陳敏璋, 鄭柏賢, |
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| 技術摘要： |
In a method for fabricating a fine structure, a metal oxide layer is formed by using an atomic layer deposition over a substrate, and the metal oxide layer is removed. An interfacial oxide layer is formed between the metal oxide layer and the substrate. The interfacial oxide layer is an oxide of an element constituting the substrate, and the interfacial oxide layer is removed.
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聯繫方式 |
| 聯絡人：
研發處產學合作總中心 |
電話：
(02)3366-9949 |
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| 地 址：
10617臺北市大安區羅斯福路四段1號 禮賢樓六樓608室 |
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