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或
1
[專利]
使可潤濕基材上所含之被反應物與反應物加速並均勻反應之設備及含其之系統以及塗佈頭
美國 (2020/08/14), 中華民國 (2020/10/27),
創作人:
王安邦
, 瞿嘉志, 趙士懿, 邱鴻年, 陳俊安, 張世宗, 王貞仁,
檢視摘要
本發明係關於一種使一可潤濕基材上所含之一被反應物與一反應物加速並均勻反應之設備 ,其包含:一機台本體,具有供該可潤濕基材置放於上之一排液底板;及一塗佈頭,係設於該機台本體上方,並可維持一預設高度沿著該可潤濕基材以水平方向移動,該塗佈頭具有一或多個狹縫,該狹縫一...