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Fabrication of tin structure based on ALD-assisted non-resist trench nanolithography

刊登日期：2018/05/15

‧ 專利名稱
‧ 專利證書號	10665696B2 9972702B2 11532729B2 11855190B2
‧ 專利權人	國立臺灣大學
‧ 專利國家 (申請日)	美國 (2014/05/22) 美國 (2018/04/25) 美國 (2020/05/26) 美國 (2022/12/13)
‧ 發明人	陳敏璋, 蔡坤諭, 劉致為,

技術摘要：

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